レーザー回折式 粒度分布測定装置 off-line


レーザー回折式 HELOS システム Sympatec社製

HELOS_BR_640-1

測定範囲 0.1μm〜3,500μm

測定対象 粉末・エマルジョン・サスペンション・スプレーミスト等

乾燥粉末は乾式測定、湿潤試料は湿式測定

HELOSシステムのコンセプトは、測定試料をそのままの状態で測定することです。
測定部本体と分散ユニットがそれぞれ独立しており、測定対象物に応じて分散ユニットを選択し測定部本体と組み合わせます。本体測定部は全ての分散器に共通していますので、分散器の拡張が可能です。

 

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測定原理

 

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Fig.1

上図 Fig. 1のようにレーザー光源(He-Neレーザー)から出たコヒーレントな光はビームエクスパンダーで適当な面積を持つ平行ビームに広げられ、測定エリアを通過する粒子郡を照射します。もし同一サイズの円板または球状の粒子をコヒーレントなレーザービームで照射すると、半径方向に対称な回折像がレンズズの焦点面 に生じます。粒子が静止していても、移動していても、気相中や液相中に浮遊していても回折像は同一です。

その回折像は、非常に明るい中心と明暗交互の一連 の同心円の環です。
レンズの焦点面に出来た回折像は焦点面に置いた多重素子検出器を使うことで検出します。一般には各種の粒径が重ね合わさった回折像の光の分布としての回折像が検出器上に現れます。検出器は同心円の半円形で出来ていて、この検出器で得た回折光強度分布を解くことによって粒度分布を求めます。

回折像

回折原理は半径r0(最小値、即ち最初の暗い環からの半径)が大きくなればなるほど、円 板または球状の粒子の径 x が小さくなることを示しています。

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検出器と回折光強度分布